尼康逆势开拓中国大陆光刻机市场，时隔二十多年再发新品，核心信息如下：
战略转型背景
尼康半导体光刻机业务面临严峻挑战。全球光刻机市场高度集中，荷兰ASML占据62%份额，佳能占31%，尼康仅占7%。受精机业务销量低迷影响，尼康预计2023财年合并净利润同比减少22%，降至350亿日元（约16.87亿元人民币）。为扭转颓势，尼康决定调整战略，通过推出新产品开拓中国大陆市场。
技术路线选择
尼康此次新品采用成熟技术，而非与ASML竞争尖端的极紫外（EUV）光刻机。新产品使用1990年代初实用化的“i线”老一代光源技术，专注于制造功率半导体等耐久性要求高的产品。这一选择与ASML形成差异化竞争：EUV光刻机用于生产7nm以下先进制程芯片，而尼康的新品瞄准成熟制程市场，如汽车电子、工业控制等领域。
市场定位与成本优势
尼康新品的定位是“性价比路线”。通过采用通用电子零部件，其价格预计比佳能同类产品低20%-30%。这一策略可能吸引中国大陆中低端光刻机需求，尤其是对成本敏感的功率半导体制造商。此外，中国大陆在成熟制程芯片领域扩产迅速，为尼康提供了市场空间。
历史竞争格局
尼康与佳能曾在1990年代主导光刻机市场，但在EUV技术竞争中败给ASML。ASML自2010年代后期垄断EUV设备生产，而尼康因资源分散在多种光源技术上，缺乏核心优势。此次新品发布是尼康时隔24年后的首次光刻机迭代，标志着其从高端市场转向细分领域，试图通过差异化竞争重返市场。
